半導體產業中如何使用臭氧
近年來，在半導體工業中，對臭氧應用的興趣大大增加。迄今為止，已經確立了將臭氧用于清潔晶片的用途。利用了臭氧在水相中氧化有機和金屬污染物的事實。
臭氧在半導體工業中的應用包括
+濕法清潔
+TEOS
+CVD
+干洗
+疏水性
硅片清洗過程中的主要流程，通過臭氧水在硅片表面形成氧化膜，然后利用HF(氟化酸)去除氧化膜，并使用SC1、SC2去除顆粒及金屬污染， 很后，再使用臭氧水在硅片表面形成氧化膜，防止硅片表面再受污染。
北京同林提供高濃度臭氧發生器，臭氧濃度可達300mg/L，臭氧水濃度可50ppm~100ppm。
