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美國 beneq TFS 500 ALD反應器(臭氧可選)

發布日期:2023-05-24  瀏覽次數:

美國 beneq  TFS 500 ALD反應器(臭氧可選)

TFS 500 是薄膜鍍膜應用中各種用途的理想選擇。作為第一個 Beneq 反應器模型,它已被證明是用于深入 ALD 研究和穩健批處理的多功能工具。TFS 500 是多項目環境的理想工具。

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TFS 500 可以處理多種類型的基板;晶圓、平面物體、顆粒和多孔散裝材料,以及具有高縱橫比特征的復雜 3D 物體。它可以進一步配備手動操作的負載鎖,以提高晶圓加工能力。不同類型的反應室可以很容易地安裝在真空室內,從而可以針對每個客戶應用優化每個反應室。

TFS 500既滿足工業可靠性的嚴格要求,又滿足研發運營靈活性的需求。工藝組件是現成的物品,可確保備件的可用性。所有前驅體容器都可以在短時間內輕松更換。前驅體準備包括氣體、液體和固體材料。為了在前驅體選擇方面具有充分的靈活性,我們還增加了 500 °C 熱源選項。

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自2014年以來,Beneq一直與MBRAUN合作,通過提供交鑰匙研發解決方案來滿足不斷增長的OLED市場需求。此次合作的目標是將 Beneq 突破性薄膜封裝技術的公認專業知識與 MBRAUN 的手套箱、定制外殼和獨立單元相結合。

參數

工藝類型
熱原子層沉積
等離子增強原子層沉積
基板類型
高達 300 mm 的晶圓
高達 370 x 470 mm 玻璃
300 x 420 mm 批量
3D 零件
基板裝載
自動
手動
主要尺寸
1600 x 900 x 1930 毫米
集成
手套箱
負載鎖定
主要尺寸,電柜(長×寬×高)
1000 × 300 × 1600 mm
工藝溫度范圍
25 – 500 °C
反應室類型和尺寸
單晶圓: ?200 × 3 (mm) / ?300 × 25 (mm)
單晶圓等離子: ?200 × 3 mm / ?300 × 3 mm
3D/批晶圓:?200 × 170 mm
3D/批次:450 × 300 × 250 mm
粉末: ?80 × 50 mm
太陽能電池批次:156×156毫米,100個
天然氣管線
很多 5 個
液體源 (+5 °C 至環境溫度)
很多 4 個
熱源 HS 300(室溫至 300 °C)
很多 4 個
熱源 HS 500(室溫至 500 °C)
很多 2 個
自選
CCP等離子體源(電容耦合)
手動裝載鎖定
控制系統
帶 PC 用戶界面的 PLC 控制


ALD配套臭氧設備

臭氧發生器:Atals H30  

臭氧分解器:F1000

臭氧在線檢測儀:3S-J5000

標簽:ALD反應器
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